薄膜(半导体)材料制备和表征
 
电子束蒸发系统 (E-Beam)
磁控溅射系统 (Sputter)
脉冲激光沉积系统(PLD)
等离子增强化学气相沉积系统
低压化学气相沉积(LPCVD)
(深)反应离子蚀刻系统(RIE)
脉冲等离子体沉积(PPD)
纳米团簇沉积系统
超高真空表面分析系统
CIGS薄膜太阳能电池沉积系统
原子层沉积系统 (ALD)
快速退火炉 (RTP)
光刻机/紫外曝光机
匀胶机
霍尔效应测量仪
变温霍尔效应测量仪
光致发光扫描系统 (PL)
电化学CV(ECV,C-V Profiler)
非接触迁移率/电阻率测量仪
探针台
低温探针台 (Cryogenic Probe Station)
定制变温真空探针台(90K-570K)
光谱型椭偏仪
膜厚仪
深能级瞬态谱仪(DLTS)
表面材料分析
 
阴极荧光分析系统 CL
扫描开尔文探针系统
表面等离子体共振仪(SPR)
显微操纵器 micromanipulator
等离子清洗机
接触角测量仪
飞行时间二次离子质谱
电镜用高纯单晶阴极灯丝
胶体及其他分散体系制备和表征
 
PALAS气溶胶发生器、稀释器
PALAS气溶胶粒径谱仪
气溶胶粒径及形状测定仪
生物气溶胶实时监测仪
尘埃粒子计数器
烟雾发生器、空气示踪器
高效过滤器评价系统
其他仪器和设备
 
低温恒温器/样品制冷系统/冷头 Cryostat/Cryocooler
太阳电池IV测试仪,太阳模拟器
傅立叶变换核磁共振波谱仪(FT-NMR)
高温超导磁体
宽频阻抗谱仪
锁相放大器
光反应器
便携式流变仪(型号:RC1)
红外热像仪
 
 
 
 
 
光反射薄膜测厚仪
原产国:德国
 
薄膜表面或界面的反射光会与从基底的反射光相干涉,干涉的发生与膜厚及折光系数等有关,因此可通过计算得到薄膜的厚度。光干涉法是一种无损、精确且快速的光学薄膜厚度测量技术,我们的薄膜测量系统采用光干涉原理测量薄膜厚度。
 
该产品是一款价格适中、功能强大的膜厚测量仪器,近几年,每年的全球销售量都超过200台。根据型号不同,测量范围可以从10nm到250um,它最高可以同时测量4个膜层中的3个膜层厚度(其中一层为基底材料)。该产品可应用于在线膜厚测量、测氧化物、SiNx、感光保护膜和半导体膜。也可以用来测量镀在钢、铝、铜、陶瓷和塑料等上的粗糙膜层。
 
应用领域
理论上讲,我们的光干涉膜厚仪可以测量所有透光或半透光薄膜的厚度。以下为我们最熟悉的应用领域(半导体薄膜,光学薄膜涂层,在线原位测量,粗糙或弧度表面测量):
□      晶片或玻璃表面的介电绝缘层(SiO2, Si3N4, Photo-resist, ITO, ...);
□      晶片或玻璃表面超薄金属层(Ag, Al, Au, Ti, ...);
□      DLC(Diamond Like Carbon)硬涂层;SOI硅片;
□      MEMs厚层薄膜(100µm up to 250µm);hspace=0
□      DVD/CD涂层;
□      光学镜头涂层;
□      SOI硅片;
□      金属箔;
□      晶片与Mask间气层;
□      减薄的晶片(< 120µm);
□      瓶子或注射器等带弧度的涂层;
□      薄膜工业的在线过程控制;等等…
 
软件功能hspace=0
丰富的材料库:操作软件的材料库带有大量材料的n和k数据,基本上的常用材料都包括在这个材料库中。用户也可以在材料库中输入没有的材料。
软件操作简单、测速快:膜厚测量仪操作非常简单,测量速度快:100ms-1s。
软件针对不同等级用户设有一般用户权限和管理者权限。
软件带有构建材料结构的拓展功能,可对单/多层薄膜数据进行拟合分析,可对薄膜材料进行预先模拟设计。
软件带有可升级的扫描功能,进行薄膜二维的测试,并将结果以2D或3D的形式显示。软件其他的升级功能还包括在线分析软件、远程控制模块等。

硬件升级
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多通道测试,最多支持8个独立的同时测试                       6英寸、12英寸扫描样品台
 
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         RTL透明样品专用夹具                           用于曲面结构的CSH探头
 
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            显微镜配适器

不同型号及规格
NanoCal-VIS           波长400 -850 nm, 膜厚50 nm.-20 μm (如SiO2 on Si)
                               分光计,A/D转换器,USB和RS232接口,卤素光源,反射探针,软件
NanoCal-NIR           波长650 -1100 nm, 膜厚70 nm.-70 μm
                               分光计,A/D转换器,USB和RS232接口,卤素光源,反射探针,软件
NanoCal-VIS/NIR    波长400 -1100 nm, 膜厚50 nm.-100 μm (选配1um-250um)
                               分光计,A/D转换器,USB和RS232接口,卤素光源,反射探针,软件
NanoCal-UV/VIS      波长250 -850 nm, 膜厚10 nm.-20 μm 
                               分光计,A/D转换器,USB和RS232接口,卤素光源,反射探针,软件
NanoCal-FULL         波长250 -1100 nm, 膜厚10 nm.-70 μm
                               分光计,A/D转换器,USB和RS232接口,卤素光源,反射探针,软件
NanoCal-NIR-HR     波长700 -978 nm, 膜厚1um-250um(选配400um),高分辨分光
                               计,A/D转换器,USB和RS232接口,卤素光源,反射探针,软件
NanoCal-512-NIR    波长900 -1700 nm, 膜厚50 nm.-200 μm  InGaAs-512阵列分光                                 计,A/D转换器,USB和RS232接口,高能卤素光源,反射探针,软件

NanoCal 软件                单层膜测量、模拟、分析,支持Windows环境;
NanoCal MS 软件          多层膜测量、模拟、分析,支持Windows环境
NanoCal Mapping软件   配合6”或12”扫描台使用,完全3D数据;
NanoCal Online软件      在线原位分析软件;
NanoCal Remote软件    远程控制软件模块


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