匀胶机 Spin Coater 
型号:Spin-1200D, Spin-3000A
品牌:MIDAS
MIDAS为匀胶机(又称为旋涂仪、甩胶机、Spin Coater等)的知名国际品牌，目前全球用户超过1800台，在高校、研究所及半导体产业享有很高的声誉，是行业领导者。
技术规格：
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项目 Item |
技术规格 Specification |
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时间 Time |
1~999秒，可调节 |
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基底尺寸 Substrate Size |
~ 4英寸/~6英寸/~8英寸 |
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卡盘旋转速度 Chuck Rotation Speed |
300~8000 rpm，直流伺服马达/交流伺服马达 |
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匀胶状态 Spin State |
50步，20个方案控制(数字程序编辑) |
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碗腔尺寸 Bowl Size |
8英寸，铝(经阳极氧化工艺)/12英寸，SUS |
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增/减速率 Accele/deceleration Rates |
可调节 |
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真空卡盘 Vacuum Chuck |
铝(阳极氧化)，乙缩醛(Acetal) |
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电源 Electrical Power |
220V, 5A |
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无油真空压力泵 Oilless Vacuum Pump |
- 650 mmHg |
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尺寸(mm) Dimension |
230 X 340 X 260 / 390 X 570 X 280 |
仪器特点：
1） 桌上型匀胶机，涂膜厚度范围：100nm~100um；
2） 可用于光刻胶(PR)，聚酰亚胺(Polyimide)，金属有机物(Metallo-organics)，搀杂剂(Dopant)，硅薄膜(Silica Film)，以及大多数的有机溶液、水溶液；
4） 加速及减速速率基于设定的时间/转速(Ramp Time/RPM value)自动计算；
5） 用户通过匀胶机前面板显示屏和按钮进行编辑、控制、存储、取出涂胶程序，并进行实验操作。
仪器介绍：
匀胶机有许多名称：甩胶机、涂胶机、涂层机、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂膜仪等, 主要应用于溶胶凝胶（Sol-Gel）实验中的薄膜制作。其工作原理是高速旋转基片, 利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上, 厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同, 也和旋转速度及时间有关。
匀胶机适用于半导体、硅片、晶片、基片、导电玻璃及制版等表面涂覆工艺, 可在工矿企业、科研、教育等单位作生产、科研、教学之用。
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