薄膜(半导体)材料制备和表征
 
电子束蒸发系统 (E-Beam)
磁控溅射系统 (Sputter)
脉冲激光沉积系统(PLD)
等离子增强化学气相沉积系统
低压化学气相沉积(LPCVD)
(深)反应离子蚀刻系统(RIE)
脉冲等离子体沉积(PPD)
纳米团簇沉积系统
超高真空表面分析系统
CIGS薄膜太阳能电池沉积系统
原子层沉积系统 (ALD)
快速退火炉 (RTP)
光刻机/紫外曝光机
匀胶机
霍尔效应测量仪
变温霍尔效应测量仪
光致发光扫描系统 (PL)
电化学CV(ECV,C-V Profiler)
非接触迁移率/电阻率测量仪
探针台
低温探针台 (Cryogenic Probe Station)
定制变温真空探针台(90K-570K)
光谱型椭偏仪
膜厚仪
深能级瞬态谱仪(DLTS)
表面材料分析
 
阴极荧光分析系统 CL
扫描开尔文探针系统
表面等离子体共振仪(SPR)
显微操纵器 micromanipulator
等离子清洗机
接触角测量仪
飞行时间二次离子质谱
电镜用高纯单晶阴极灯丝
胶体及其他分散体系制备和表征
 
PALAS气溶胶发生器、稀释器
PALAS气溶胶粒径谱仪
气溶胶粒径及形状测定仪
生物气溶胶实时监测仪
尘埃粒子计数器
烟雾发生器、空气示踪器
高效过滤器评价系统
其他仪器和设备
 
低温恒温器/样品制冷系统/冷头 Cryostat/Cryocooler
太阳电池IV测试仪,太阳模拟器
傅立叶变换核磁共振波谱仪(FT-NMR)
高温超导磁体
宽频阻抗谱仪
锁相放大器
光反应器
便携式流变仪(型号:RC1)
红外热像仪
 
 
 
 
 

滤料测试系统
原产国:德国Palas

MFP系统配置We-las气溶胶粒径谱仪,可含两个传感器,其中一个测定滤料的上游颗粒浓度,测定浓度可高达1000mg/m3而无须稀释.使用另外一个传感器测定滤料的下游颗粒浓度,即在线分级效率测量。此系统可快速、准确地测量滤料及面罩的过滤效率。可对过滤效率为99.9999%的滤料及面罩进行测试,并符合欧盟EN1822-3的规范。

产品规格 hspace=0
气溶胶发生:
• 油性气溶胶类型:PAO,DOP,DEHS,石蜡
• 盐型气溶胶类型:氯化钠
气溶胶检测:
• 检测方法:双重We-las探测器
• 浓度测量范围:1.0μg/m3~200mg/m3
• 流量范围:5~300 L/min
• 效率测量范围:0~99.9999%
• 压降测量:0--2500pa

应用领域
车用空气过滤器
一般通风过滤器
超高效过滤器
真空吸尘器
压缩空气过滤器
高温气体过滤器

 

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