薄膜(半导体)材料制备和表征
 
电子束蒸发系统 (E-Beam)
磁控溅射系统 (Sputter)
脉冲激光沉积系统(PLD)
等离子增强化学气相沉积系统
低压化学气相沉积(LPCVD)
(深)反应离子蚀刻系统(RIE)
脉冲等离子体沉积(PPD)
纳米团簇沉积系统
超高真空表面分析系统
CIGS薄膜太阳能电池沉积系统
原子层沉积系统 (ALD)
快速退火炉 (RTP)
光刻机/紫外曝光机
匀胶机
霍尔效应测量仪
变温霍尔效应测量仪
光致发光扫描系统 (PL)
电化学CV(ECV,C-V Profiler)
非接触迁移率/电阻率测量仪
探针台
低温探针台 (Cryogenic Probe Station)
定制变温真空探针台(90K-570K)
光谱型椭偏仪
膜厚仪
深能级瞬态谱仪(DLTS)
表面材料分析
 
阴极荧光分析系统 CL
扫描开尔文探针系统
表面等离子体共振仪(SPR)
显微操纵器 micromanipulator
等离子清洗机
接触角测量仪
飞行时间二次离子质谱
电镜用高纯单晶阴极灯丝
胶体及其他分散体系制备和表征
 
PALAS气溶胶发生器、稀释器
PALAS气溶胶粒径谱仪
气溶胶粒径及形状测定仪
生物气溶胶实时监测仪
尘埃粒子计数器
烟雾发生器、空气示踪器
高效过滤器评价系统
其他仪器和设备
 
低温恒温器/样品制冷系统/冷头 Cryostat/Cryocooler
太阳电池IV测试仪,太阳模拟器
傅立叶变换核磁共振波谱仪(FT-NMR)
高温超导磁体
宽频阻抗谱仪
锁相放大器
光反应器
便携式流变仪(型号:RC1)
红外热像仪
 
 
 
 
 
铜铟镓硒(CIGS)薄膜太阳能电池沉积系统hspace=0
生产国:韩国
型号:150
 
仪器介绍:
铜铟镓硒薄膜太阳能电池沉积系统优点:
· 高转换效率;
· 大容量吸收,电池可靠性长达10年;
· 抗辐射;
· 低成本的基片和复合基片;
 
技术参数:
1. 真空腔体模块
a. 主沉积腔, 1 SET
    - 形状 & 尺寸 : 前开门式 (Φ500 x H600 mm)
    - 蒸发源口径 : effusion cell 5 ea (CF4.5” 4ea, CF6” 1ea)
    - 接口 : 可视窗 (带挡板), 泵抽气口, 前加热器,表头, 排空口, 基片挡板,  T/C 口, 样品转移口,高温计,备用 E-Cell port (CF4.5” 2ea), T/M 传感器
    - 外部水冷
    - 内部保护盖
b. 样品转移腔
    - 腔体: 前开门式(Φ150 x H200 mm)
    - 基片夹具:  可夹100X100 mm2 基片
    - 磁力杆传送基片
    - 接口: 泵,排空,表头,可视窗,阀,备用etc.
    - MFC(Ar 10,000 sccm) 和花伞喷淋吹扫
c. 基片样品台模块, 1 SET
    - 基片尺寸 : Φ150 mm (100X100 mm2 x 1片)
    - 基片加热模块 : SiC加热器 , 最高 700 ℃
    - 基片加热功率 (40A x 60V)
    - 温度显示,温度指示
    - 前加热器模块
    - 包括挡板
    - Z轴移动, 转动
 
2. 真空模块
a. 真空泵
   • Rotary泵: 600 l/min,用于粗抽主样品沉积腔
   • 冷凝泵, N2 2400 l/sec,用于高真空和沉积工作
b. 真空阀和泵的管道
   • 圆形闸板阀, 10 英寸,用于冷凝泵
   • 圆形闸板阀, 10 英寸,用于样品转移腔
   • 右角阀
   • 粗抽泵,用于样品转移腔
   • 高真空阀
   • 排空阀 
c. 真空测试
   •离子规,用于主腔体高真空测试 , 1 set
   • Convection计, 用于主腔体粗抽低真空测试, 2 set
d. 膜厚监控系统
   • 石英振荡型沉积控制器,6通道,(CYGNUS controller)
   • 共沉积模式监控 : 可测试 4个蒸发源 
   • 共沉积速率模式监控 : 可测试 4个蒸发源
   • 单个晶体传感器: 4 set
   • 测试分辨率: 0.5 Å
   • 厚度显示范围: 0 to 999.9 kÅ
   • 厚度准确度: 0.5%
   • 屏幕参数显示
 
3. 蒸发源模块
a. EFFUSION CELL SOURCE & 电源 : 4 SET
    - 蒸发源 : Effusion cell ( for Cu, In,Ga,Se)
 
4. 系统控制模块
   - 手动过程控制及可升级至自动过程控制
   - 硬件: PLC, PC
   - 安全自锁, 用于电路,压缩气体,冷却水循环,泵及阀,, etc
   - 基片温度显示: 曲线图和高温计, etc.
   - 系统状态显示屏
 
5. 主机框架及控制柜
   - 整体机器被可移动的显示屏罩罩
   - 框架下有可调节支腿- 电源 (压力规, 蒸发源的电源etc.)
   - 19 支架用于控制屏及控制器
 
仪器特点:
CIGS 沉积系统的主要特点:
1. 沉积厚度: 可达几个微米up to several micron
2. 沉积材料: CIGS(Cu, In, Ga, Se), etc..
3. 膜厚均匀性: ≤ ± 5 % 在 100X100 mm2 基片上
4. 基片: Soda-lime glass, SUS foil, etc..
5. 沉积模式: 在基片加热过程中,使用 Effusion cell 蒸镀
6. 产量: 100X100 mm2 x 1sheet/ batch, 手动
7. 真空度: 极限真空 3 x 10 -7 Torr
8. 真空腔: 样品转移腔和主沉积腔
9. 控制系统: 基于 PLC and PC上的手动操作
10. 目的: 研究及发展(R&D)
 

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