快速退火炉 (Rapid Thermal Processing System, RTP)
生产商：ECOPIA Corp
型 号：RTP-1300, RTP-1200
1）主要技术规格
加热方式：红外卤素钨灯；
卤灯数量：12支；
功率：600W * 12ea；
最快升温速率：60~80℃/Second；
最快降温速率：60秒(1000℃ → 400℃)；
最高温度：1200℃；
温度精度：+/- 1℃；
最大样品尺寸：4英寸；
工作环境：真空、气体（氮气、氩气、氧气、Forming Gas）、空气；
真空泵及极限压力：机械泵，10-3Torr水平(Option)；
电压：220 V，单相；
尺寸：500*400*500mm (W*D*H)；
质量：净重55Kg；
2）仪器特点
- 可在真空/不同气氛/空气不同环境下，对样品进行快速热处理；
- 温控精度高；
- 适合高校或研究所科研使用；
- 循环水冷却系统；
- 台式设计；
- 仪器操作方便，样片装取容易；
- 价格合理，高性价比；
3）应用范围
- 快速热退火 (Rapid Thermal Annealing,RTA);
- 快速热氧化 (Rapid Thermal Oxidation,RTO);
- 快速热氮化 (Rapid Thermal Nitridation,RTN);
- 硅化 (Silicidation);
- 扩散 (Diffusion);
- 化合物半导体退火 (Compound Semiconductor Annealing);
- 离子注入后退火 (Implant Annealing);
- 电极合金化 (Contact Alloying);
- 晶向化和坚化 (Crystallization and Densification);
- 合金熔点分析;
- 薄膜沉积; 等等…
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